超純水設備中EDI模塊的滲水歷經(jīng)預備處理和反滲透系統軟件在非常大的水平上降低了膜塊內部堵塞的機遇，可是伴隨著(zhù)機器設備運作時(shí)間的延伸，EDI膜塊內部水路還是有可能造成堵塞。碰到上述所說(shuō)情況，務(wù)必對超純水設備中EDI模塊開(kāi)展清洗，使之修復到原先的技術(shù)性特點(diǎn)。

超純水設備中EDI模塊要怎么清洗?

1、線(xiàn)上清洗：線(xiàn)上清洗是指對反滲透系統軟件整體進(jìn)行清洗，膜電子器件不用取下壓力容器，一般在非常大系統中方案設計運用。此清洗方式 方便使用方便快捷，速度更快，缺點(diǎn)為清洗不徹底，預期效果不理性化。

2、線(xiàn)下推廣清洗：線(xiàn)下推廣清洗是指將超純水設備中EDI模塊從反滲透壓力容器中卸除，放進(jìn)專(zhuān)用清洗機械設備中進(jìn)行清洗，此清洗方式 方便使用方便快捷，清洗徹底、預期效果較好是。

超純水設備中EDI模塊清洗常見(jiàn)問(wèn)題

1、必須清洗的機器設備管路務(wù)必是與別的聯(lián)接機器設備的聯(lián)接管路徹底防護的。

2、必須清洗的機器設備其開(kāi)關(guān)電源務(wù)必是徹底斷開(kāi)并有“已經(jīng)實(shí)際操作，不可合閘”的安全警示標識。

3、全部清洗全過(guò)程中清洗的壓力不可以超出0.15MPa。

4、禁止運用二甲苯或其他的溶劑。

5、維護保養安全系數標志。