反滲透水凈化設備（膜分離技術(shù)）技術(shù)性的運用使反滲透超純水設備從傳統式的陽(yáng)離子交換器、滲碳、陰離子交換器、復合型離子交換器獲得了一次發(fā)展。

近些年逐漸國外應用推廣的EDI（電去離子）技術(shù)性，則是超純水系統生產(chǎn)技術(shù)的一次改革，此后進(jìn)入了一個(gè)不用再造化工品，而能生產(chǎn)制造出達到18MΩ·CM的超純水系統，用以半導體材料、集成電路芯片等領(lǐng)域。反滲透超純水設備是選用專(zhuān)用型RO技術(shù)性設計方案，核心部件、機器設備選用進(jìn)口知名商標，加工工藝優(yōu)秀，品質(zhì)靠譜，擴展性強，構造合理占地面積小，水使用率高，耗能低，全自動(dòng)化技術(shù)運作，實(shí)際操作維護保養簡(jiǎn)易。一般產(chǎn)水量低限0.25m3/hr，限制不限，水利用率一般可以達到75%之上，除鹽率＞98%。產(chǎn)水率隨滲水溫度降低和反滲透膜脆化或受環(huán)境污染有一定轉變。

反滲透超純水設備典型性生產(chǎn)流程為：

1:預備處理－反滲透－提純水箱－離子交換器－紫外線(xiàn)殺菌燈-純水泵－用水點(diǎn)

2:預備處理－一級反滲透－二級反滲透（正電反滲膜）－提純水箱－純水泵-紫外線(xiàn)殺菌燈－用水點(diǎn)

3:預備處理－反滲透－正中間水箱－正中間水泵－EDI設備－提純水箱－純水泵-紫外線(xiàn)殺菌燈－用水點(diǎn)

4:預備處理→紫外線(xiàn)消毒設備→一級RO設備→二級RO設備→正中間水箱→EDI設備→脫氨設備→氮封純水箱→除TOCUV設備→打磨拋光陽(yáng)離子樹(shù)脂→超濾裝置→用水點(diǎn)

水體合乎美國ASTM規范，電子部超純水系統水質(zhì)檢測標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）