電鍍工藝領(lǐng)域純化水設(shè)備選用了EDI技術(shù)性與離子交換技術(shù)性融合的方法，利用工作電壓將水里的電離子開(kāi)展定項(xiàng)轉(zhuǎn)移，根據(jù)應(yīng)用離子交換環(huán)氧樹(shù)脂的吸咐功效將水里的電離子趨于陽(yáng)離子過(guò)濾膜和正離子過(guò)濾膜，較后產(chǎn)生濃水排出來(lái)。

超純水系統(tǒng)制取加工工藝

1、預(yù)備處理系統(tǒng)軟件→ro反滲透系統(tǒng)軟件→正中間儲(chǔ)水箱→粗混和床→精混和床→純儲(chǔ)水箱→純離心水泵→紫外線消毒器→打磨拋光環(huán)氧樹(shù)脂→高精密過(guò)濾器→自來(lái)水目標(biāo)(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)手工藝)

2、預(yù)備處理→ro反滲透→正中間儲(chǔ)水箱→離心水泵→EDI設(shè)備→提純儲(chǔ)水箱→純離心水泵→紫外線消毒器→打磨拋光環(huán)氧樹(shù)脂→0.2或0.5μm高精密過(guò)濾器→自來(lái)水目標(biāo)(≥18MΩ.CM)(全新加工工藝)

3、預(yù)備處理→一級(jí)ro反滲透→投藥機(jī)(PH調(diào)整)→正中間儲(chǔ)水箱→第二級(jí)ro反滲透(正電反滲膜)→純儲(chǔ)水箱→純離心水泵→EDI設(shè)備→紫外線消毒器→0.2或0.5μm高精密過(guò)濾器→自來(lái)水目標(biāo)(≥17MΩ.CM)(全新加工工藝)

4、預(yù)備處理→ro反滲透→正中間儲(chǔ)水箱→離心水泵→EDI設(shè)備→純儲(chǔ)水箱→純離心水泵→紫外線消毒器→0.2或0.5μm高精密過(guò)濾器→自來(lái)水目標(biāo)(≥15MΩ.CM)(全新加工工藝)

5、預(yù)備處理系統(tǒng)軟件→ro反滲透系統(tǒng)軟件→正中間儲(chǔ)水箱→純離心水泵→粗混和床→精混和床→紫外線消毒器→高精密過(guò)濾器→自來(lái)水目標(biāo)(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)手工藝)

領(lǐng)域純化水設(shè)備特性優(yōu)點(diǎn)

EDI水處理系統(tǒng)特性優(yōu)點(diǎn)不計(jì)其數(shù)，其可以持續(xù)平穩(wěn)的制取質(zhì)量?jī)?yōu)質(zhì)的超純水系統(tǒng)，不容易由于環(huán)氧樹(shù)脂再造而停止運(yùn)行，機(jī)器設(shè)備總體設(shè)計(jì)相對(duì)性靠緊，因此 其占地面積十分小，能夠?yàn)楣竟?jié)約許多 室內(nèi)空間，純化水設(shè)備在原廠前均需開(kāi)展設(shè)備調(diào)節(jié)，因此 機(jī)器設(shè)備常見(jiàn)故障概率較小，日常保養(yǎng)、檢修等實(shí)際操作都比較簡(jiǎn)單。

超純水系統(tǒng)內(nèi)部還安裝有ro反滲透預(yù)除鹽技術(shù)性，再度從源頭上行確保了機(jī)器設(shè)備的出水量水體，此外，EDI解決設(shè)備污水產(chǎn)出率少，不容易對(duì)自然環(huán)境導(dǎo)致環(huán)境污染，有十分高的生態(tài)效益、經(jīng)濟(jì)收益，其發(fā)展前途寬闊。

超純水系統(tǒng)水質(zhì)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)

我企業(yè)純化水設(shè)備出水量水體符合實(shí)際英國(guó)ASTM純凈水水質(zhì)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)、在我國(guó)電子工業(yè)部電子器件級(jí)水體標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5CΩ.cm五級(jí)規(guī)范)、在我國(guó)電子工業(yè)部工業(yè)純水水體實(shí)施規(guī)范、英國(guó)半導(dǎo)體材料工業(yè)級(jí)純凈水指標(biāo)值、日本國(guó)集成電路芯片水質(zhì)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)、世界各國(guó)規(guī)模性集成電路芯片水質(zhì)檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)。