RO-EDI純化水設備在電子制作全過(guò)程中的功效不能小視。電子器件、半導體材料、液晶顯示屏、太陽(yáng)能發(fā)電工業(yè)化生產(chǎn)在制作過(guò)程中，通常必須 應用極為純粹的超純水系統。假如純凈水水體達不上生產(chǎn)工藝流程自來(lái)水的規定或是水體不穩定得話(huà)，會(huì )危害到事后加工工藝的解決實(shí)際效果和使用期限。

在光伏產(chǎn)業(yè)整流管生產(chǎn)制造中，如在其中滲入殘渣，便會(huì )危害電子器件的發(fā)送，從而危害整流管的變大特性及使用壽命，在顯象管和陰極射線(xiàn)生產(chǎn)制造中，其顯示屏內腔用噴漆法或離子交換法粘附一層瑩光化學(xué)物質(zhì)，與其配置純凈水中含銅在8ppb之上，便會(huì )造成發(fā)亮掉色；鐵元素在50ppb之上便會(huì )使發(fā)亮掉色、發(fā)暗、閃爍并會(huì )導致汽泡、條跡、透光點(diǎn)等廢殘品。在黑與白顯象管顯示屏生產(chǎn)制造的12個(gè)工藝流程中，玻殼清理、沉積、潮濕、洗膜、管頸清理等5個(gè)工藝流程需應用純凈水，每生產(chǎn)制造一個(gè)晶體三極管需工業(yè)純水80kg。

液晶顯示屏的屏面需要純凈水清理和用純凈水配液，如純凈水中有金屬離子、微生物菌種、顆粒等殘渣，便會(huì )使液晶顯示屏電源電路產(chǎn)生常見(jiàn)故障，危害液晶顯示屏品質(zhì)，造成 損毀、殘品。在晶體三極管、集成電路芯片生產(chǎn)制造中，純凈水關(guān)鍵用以清理單晶硅片，另有小量用以藥水配置，單晶硅片空氣氧化的水蒸氣源，一部分機器設備的冷卻循環(huán)水，配置電鍍工藝液等。集成電路芯片的產(chǎn)品品質(zhì)及生產(chǎn)制造良品率關(guān)聯(lián)非常大。

水里的堿土金屬（K、Na等）會(huì )使絕緣層膜抗壓欠佳，重金屬超標（Au、Ag、Cu等）會(huì )使PN結抗壓減少，III族原素（B、Al、Ga等）會(huì )使N型半導體特點(diǎn)惡變，V族素（P、As、Sb等）會(huì )使P型半導體特點(diǎn)惡變，水里病菌高溫炭化后的磷（約占灰份的20%~50%）會(huì )使P型單晶硅片上的部分地區轉變 為N型硅而造成 元器件特性受到影響。水里的顆粒物（包含病菌）如吸咐在單晶硅片表層，便會(huì )造成電路短路或特點(diǎn)下降。因而水的質(zhì)量非常關(guān)鍵。RO-EDI純化水設備加工工藝，能夠做到超純水系統規范。